Zasilacz elektrolizy 415 V z chłodzeniem wodnym, impulsowy, okresowy, odwrotny

Zasilacz elektrolizy 415 V z chłodzeniem wodnym, impulsowy, okresowy, odwrotny

1. Podstawowa zasada okresowego galwanizowania impulsowego

W procesie galwanizacji impulsowej, po włączeniu prądu, polaryzacja elektrochemiczna wzrasta, jony metalu w pobliżu katody są całkowicie osadzane, a warstwa galwaniczna jest drobnokrystaliczna i błyszcząca; po wyłączeniu prądu jony wyładowania w pobliżu katody powracają do pierwotnego stężenia. Polaryzacja stężeniowa zostaje wyeliminowana.
Okresowe galwanizowanie impulsowe komutacyjne jest powszechnie znane jako podwójne (tj. dwukierunkowe) galwanizowanie impulsowe. Polega ono na wprowadzeniu zestawu impulsów wstecznych po wyprowadzeniu zestawu impulsów w kierunku przewodzenia. Czas trwania impulsu w kierunku przewodzenia jest długi, a w kierunku wstecznym krótki. Wysoce nierównomierny rozkład prądu anodowego spowodowany krótkotrwałym impulsem wstecznym powoduje silne rozpuszczenie i spłaszczenie wypukłej części powłoki. Typowy przebieg impulsu okresowego komutacyjnego przedstawiono poniżej.

Cechy
Dzięki funkcji sterowania czasem ustawianie jest proste i wygodne, a czas pracy biegunowości dodatniej i ujemnej prądu można dowolnie ustawić, zależnie od wymagań procesu galwanizacji.
Posiada trzy stany pracy automatycznej komutacji cyklu: dodatni, ujemny i odwrotny, a także może automatycznie zmieniać biegunowość prądu wyjściowego.

Przewaga galwanizacji impulsowej komutacyjnej
1 Prąd impulsowy wsteczny poprawia rozkład grubości powłoki, grubość powłoki jest jednolita, a poziomowanie jest dobre.
2 Rozpuszczenie anody w wyniku odwrotnego impulsu powoduje szybki wzrost stężenia jonów metalu na powierzchni katody, co sprzyja wykorzystaniu wysokiej gęstości prądu impulsowego w kolejnym cyklu katodowym. Wysoka gęstość prądu impulsowego powoduje, że szybkość formowania się jądra kryształu jest szybsza niż szybkość wzrostu kryształu, dzięki czemu powłoka jest gęsta i jasna, o małej porowatości.
3. Odwrotne impulsowe usuwanie powłoki anodowej znacznie zmniejsza przyleganie zanieczyszczeń organicznych (w tym wybielacza) do powłoki, dzięki czemu powłoka charakteryzuje się wysoką czystością i dużą odpornością na odbarwienia, co jest szczególnie widoczne w przypadku galwanizacji cyjankiem srebra.
4. Prąd impulsowy wsteczny utlenia wodór zawarty w powłoce, co może wyeliminować kruchość wodorową (tak jak impuls wsteczny może usunąć współosadzony wodór podczas elektroosadzania palladu) lub zmniejszyć naprężenia wewnętrzne.
5. Okresowy prąd impulsowy wsteczny utrzymuje powierzchnię platerowanej części w stanie aktywnym przez cały czas, dzięki czemu możliwe jest uzyskanie warstwy platerowanej o dobrej sile wiązania.
6. Impuls odwrotny pomaga zmniejszyć rzeczywistą grubość warstwy dyfuzyjnej i poprawić wydajność prądową katody. Dlatego odpowiednie parametry impulsu dodatkowo przyspieszą tempo osadzania powłoki.
7 W systemie galwanicznym, który nie pozwala na stosowanie niewielkiej ilości dodatków, galwanizacja dwupulsowa pozwala uzyskać cienką, gładką i gładką powłokę.
W rezultacie wskaźniki wydajności powłoki, takie jak odporność na temperaturę, odporność na zużycie, spawanie, wytrzymałość, odporność na korozję, przewodność, odporność na przebarwienia i gładkość wzrosły wykładniczo, a powłoka może znacznie zaoszczędzić rzadkie i szlachetne metale (około 20%–50%) i dodatki (takie jak galwanizacja cyjankiem srebra, która pozwala zaoszczędzić około 50%–80%).